Mark R. Lucksinger's scientific contributions

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This work describes the implementation and performance of AGILE focus corrections for advanced photo lithography in volume production as well as advanced development in IBM's 300mm facility. In particular, a logic hierarchy that manages the air gage sub-system corrections to optimize tool productivity while sampling with sufficient frequency to ens...

Citations

... La problématique de la topologie du wafer n'est pas récente [49] Pour s'assurer que la mesure donne une valeur correcte de la topographie du wafer, un second capteur pneumatique (non impacté par ces effets), nommé AGILE [52] pour « Air Gauge Improved Leveling » (ou mise à niveau améliorée par capteur pneumatique), a été installé dans les scanners de lithographie ASML. AGILE mesure une différence de pression entre deux jets d'air : une référence et le capteur. ...