Flavio Assahi’s research while affiliated with Federal University of Minas Gerais and other places

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Publications (2)


Desenvolvimento de um sistema robusto para preparação de substrato e crescimento de filmes finos de MoS2, pela técnica de CVD
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January 2024

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8 Reads

Flavio Assahi

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O primeiro material bidimensional descoberto foi o grafeno em 2004. A partir de então, estudos foram desenvolvidos com outros materiais e, um dos primeiros semicondutores a ser isolado foi o dissulfeto de molibdênio, o MoS2. Ao contrário do grafeno, o MoS2 tem gap de energia, e na forma de monocamada o gap passa de indireto para direto. Essa mudança resulta em uma fotoluminescência de alto brilho. Devido ao alto desempenho elétrico e óptico, o MoS2 (2D) tem grande potencial de aplicação nos dispositivos eletrônicos e campos fotoeletrônicos. Existem diversas técnicas para produzir este material, e uma delas é através do método de Deposição Química de Vapor (CVD) que consiste na formação de cristais no substrato, pela deposição atômica ou molecular, sendo o sólido oriundo de uma reação química onde os precursores estão na fase de vapor. O objetivo deste trabalho será sintetizar e caracterizar o MoS2 pelo método de CVD, a partir de um sistema de equipamento robusto construídos no laboratório. Para preparar os substratos foram submetidos a um tratamento de ultravioleta para permitir que os materiais depositados resistam ao desgaste por contato. Então construiu-se uma câmara para tratamento por radiação UV/ozônio, e, após a preparação, os substratos foram colocados em um forno com temperatura controlada e com atmosfera inerte. Este forno tubular também foi construído com o intuito da produção do MoS2. Após os ensaios foi possível obter a formação de MoS2 com a caracterização pelo MEV, EDS e DRX para análise e identificação dos materiais formados no substrato.